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dc.contributor.advisorGarrido González, Fernando
dc.contributor.advisorCabello Lechuga, Ángel
dc.contributor.authorRivas Street, Héctor Orlando
dc.coverage.spatialRegión del Biobíoes_CL
dc.date.accessioned2022-07-03T23:58:43Z
dc.date.available2022-07-03T23:58:43Z
dc.date.issued1993
dc.identifier.urihttps://bibliotecadigital.infor.cl/handle/20.500.12220/32017
dc.description217 páginas, figuras, cuadroses_CL
dc.description.abstractEl objetivo de este estudio fue determinar el efecto del espaciamiento de siembra en vivero, el momento de efectuar la poda de raíces y la aplicación de herbicida Velpar inmediatamente después de la plantación, en el diámetro y la altura de plantas de Pinus radiata D. Don. Este efecto se evaluó en plantas de un año y después de dos y tres años de efectuada la plantación. Los resultados indican que el espaciamiento de siembra produce diferencias, estadísticamente muy significativas, en el diámetro y la altura de las plántulas al momento de efectuar la plantación, pero después de tres años estas diferencias son sólo significativas en la altura.es_CL
dc.language.isoeses_CL
dc.publisherUniversidad de Chile Facultad de Ciencias Agrarias y Forestales. Escuela de Ciencias Forestales, Departamento de Silviculturaes_CL
dc.rightsAttribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Chile*
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/cl/*
dc.subjectPINO RADIATAes_CL
dc.subjectVIVEROS FORESTALESes_CL
dc.subjectCONTROL QUIMICO DE LAS MALEZASes_CL
dc.subjectPLANTACIONES FORESTALESes_CL
dc.subjectPODAes_CL
dc.subjectHERBICIDASes_CL
dc.titleEvaluación del espaciamiento de siembra, poda de raices en vivero y aplicación de herbicida Velpar en el desarrollo de plantas de Pinus radiata D. Don en una plantaciónes_CL
dc.typeTesises_CL
infor.comunaCañetees_CL
infor.notasMemoria para optar al titulo profesional de Ingeniero Forestales_CL
infor.especiePinus radiataes_CL
infor.operadorvpmes_CL


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